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Des juego Forestera | 132*64HACERTS |
Fuerza Suministrar | 3,0 V |
Des juego Tsip | FSTN, correosSITIVE ,TRANSFLECTIVO |
Voyendo Direción | 6.00 ohclok |
LCD driveng metanfetaminasobredosis | 1/65 Duty, 1/9 Inclinación, 9.2V |
driver CI | ST7565R |
entradat Datos | paraleloleel 6800 Series parlamentarioU En terfacmi / Paraleloel 8080 Series parlamentarioU Interfaz / Interfaz SPI de 4 líneas en serie |
Módulo Size(Ancho*Alto*Largo) | 73.4*37.8/44.8 *2.85(MHACHA)mm |
Ves decirwEn g Area (ancho x alto) | 67.50*34.40mm |
Active Area (W*H) | 58.04*30.68mm |
Hacert Size (ancho x alto) | 0.40*0.44 mm |
Hacert hoyoh (ancho x alto) | 0.44*0.48 mm |
Artículo | Símbolo | MÍN. | máx. | Unidad |
SorberpmentiraVoesedad | VDD | -0.3 | 3.6 | V |
VLCD | -0.3 | 13.5 | V | |
OPerating temperature | Topr | -20 | 70 | ℃ |
STormento temtemperatura | Tstr | -30 | 80 | ℃ |
132*64HACERT FSTN, correosSITIVE ,TRANSFLECTIVO
Solicitud：
LIBRO GRANDE Fábrica：
Por qué elegirnos:
Embalaje y envío：
Embalaje: Caja de cartón cajass, Armario , EPE, bandeja de blíster, Acerca de el paquete forma, depende de el tamaño de los productos,
de acuerdo a a petición del cliente y demanda DLos diferentes países no tienen el mismo requisito...
Envío: Manera expresa como DHL, Fedex, EMS, UPS, aire envío,mar envío, cualquiera método de envío que prefiera.
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Nuestros servicios：
1. Gratis reparar dentro uno año después el envío de productos de a nosotros.
2. Reemplazo dentro 30 días después el envío de productos de a nosotros pendiente a productos' problemas.
3. Nosotros poder imprimir su logo y palo su modelo Mediodía el cámaras
4. Nosotros tener largo cooperación con muchos envío compañías y nuestro exportar volumen es grande. El envío compañías
poder oferta a nosotros bien descuentos
5. Profesional técnico apoya Nosotros tener a bien después de las ventas servicio equipo. They poder resolver su problemas en tiempo.
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Tecnología LCD TFT-LCD:
El proceso de fabricación de la pantalla de cristal líquido de transistores de película delgada consta de las siguientes partes: la matriz TFT se forma sobre el sustrato TFT;formar un patrón de filtro de color y una capa conductora de ITO sobre el sustrato del filtro de color;con dos sustratos para formar una instalación de caja de cristal líquido;Circuito periférico, conjunto de montaje del módulo de retroiluminación.
1. proceso para formar una matriz TFT en un sustrato TFT
TFT ha realizado la industrialización de los tipos incluyen: TFT de silicio amorfo (a-Si TFT), TFT de silicio policristalino (p-Si TFT), TFT de silicio monocristalino (c-Si) varios.Actualmente el más utilizado es a-Si TFT.
El proceso de fabricación de a-Si TFT consiste en pulverizar primero la película de material de entrada sobre el sustrato de vidrio de borosilicato y luego formar el patrón de cuadrícula después de la exposición de la máscara, el revelado y el grabado en seco.Máquina de exposición escalonada para exposición general de máscaras.El segundo paso es utilizar el método PECVD para la formación de película continua, película de SiNx, película de a-Si no dopada, película de n+a-Si dopada con fósforo.Luego, el patrón a-Si de la parte TFT se forma mediante la exposición de la máscara y el grabado en seco.El tercer paso es formar un electrodo transparente (película de ITO) mediante pulverización catódica y luego mostrar el patrón del electrodo mediante la exposición de la máscara y el grabado húmedo.El patrón de orificios de contacto de la película de aislamiento extremo de la puerta del cuarto paso se forma mediante la exposición de la máscara y el método de grabado en seco.El quinto paso es pulverizar AL en la película, con exposición de máscara, grabando el patrón de fuente, drenaje y línea de señal de TFT.Finalmente, la película protectora se forma mediante el método PECVD, y luego la película se graba mediante exposición de máscara y grabado en seco.La película protectora se utiliza para proteger el electrodo y el electrodo y el electrodo de visualización.Hasta ahora, todo el proceso se ha completado.
La tecnología de matriz TFT es la clave del proceso de fabricación de TFT-LCD y la mayor parte de la inversión en equipos.Todo el proceso requiere un alto nivel de purificación (por ejemplo, nivel 10).
2. proceso para formar un patrón de filtro de color en un sustrato de filtro de color (CF)
El método para formar la parte coloreada del filtro de color comprende un método de tinte, un método de dispersión de pigmentos, un método de impresión, un método de deposición electrolítica y un método de inyección de tinta.En la actualidad, el método de dispersión de pigmentos.
El primer paso del método de dispersión de pigmentos es dispersar las partículas finas (tamaño de partícula promedio inferior a 0,1 M) (R, G, B tricolor) en la resina fotosensible transparente.Luego fueron recubiertas con patrones de color R., G. y B para ser recubiertas, expuestas y reveladas.El dispositivo se utiliza principalmente para recubrimiento, exposición y revelado.
Para evitar fugas de luz, generalmente con una matriz negra en la unión de tres RGB (BM).En el pasado, la película de cromo metálico de una sola capa se formaba mediante el método de pulverización catódica, y ahora hay un nuevo tipo de película BM o resina de carbono mixta BM.
Des juego Forestera | 132*64HACERTS |
Fuerza Suministrar | 3,0 V |
Des juego Tsip | FSTN, correosSITIVE ,TRANSFLECTIVO |
Voyendo Direción | 6.00 ohclok |
LCD driveng metanfetaminasobredosis | 1/65 Duty, 1/9 Inclinación, 9.2V |
driver CI | ST7565R |
entradat Datos | paraleloleel 6800 Series parlamentarioU En terfacmi / Paraleloel 8080 Series parlamentarioU Interfaz / Interfaz SPI de 4 líneas en serie |
Módulo Size(Ancho*Alto*Largo) | 73.4*37.8/44.8 *2.85(MHACHA)mm |
Ves decirwEn g Area (ancho x alto) | 67.50*34.40mm |
Active Area (W*H) | 58.04*30.68mm |
Hacert Size (ancho x alto) | 0.40*0.44 mm |
Hacert hoyoh (ancho x alto) | 0.44*0.48 mm |
Artículo | Símbolo | MÍN. | máx. | Unidad |
SorberpmentiraVoesedad | VDD | -0.3 | 3.6 | V |
VLCD | -0.3 | 13.5 | V | |
OPerating temperature | Topr | -20 | 70 | ℃ |
STormento temtemperatura | Tstr | -30 | 80 | ℃ |
132*64HACERT FSTN, correosSITIVE ,TRANSFLECTIVO
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Embalaje: Caja de cartón cajass, Armario , EPE, bandeja de blíster, Acerca de el paquete forma, depende de el tamaño de los productos,
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Tecnología LCD TFT-LCD:
El proceso de fabricación de la pantalla de cristal líquido de transistores de película delgada consta de las siguientes partes: la matriz TFT se forma sobre el sustrato TFT;formar un patrón de filtro de color y una capa conductora de ITO sobre el sustrato del filtro de color;con dos sustratos para formar una instalación de caja de cristal líquido;Circuito periférico, conjunto de montaje del módulo de retroiluminación.
1. proceso para formar una matriz TFT en un sustrato TFT
TFT ha realizado la industrialización de los tipos incluyen: TFT de silicio amorfo (a-Si TFT), TFT de silicio policristalino (p-Si TFT), TFT de silicio monocristalino (c-Si) varios.Actualmente el más utilizado es a-Si TFT.
El proceso de fabricación de a-Si TFT consiste en pulverizar primero la película de material de entrada sobre el sustrato de vidrio de borosilicato y luego formar el patrón de cuadrícula después de la exposición de la máscara, el revelado y el grabado en seco.Máquina de exposición escalonada para exposición general de máscaras.El segundo paso es utilizar el método PECVD para la formación de película continua, película de SiNx, película de a-Si no dopada, película de n+a-Si dopada con fósforo.Luego, el patrón a-Si de la parte TFT se forma mediante la exposición de la máscara y el grabado en seco.El tercer paso es formar un electrodo transparente (película de ITO) mediante pulverización catódica y luego mostrar el patrón del electrodo mediante la exposición de la máscara y el grabado húmedo.El patrón de orificios de contacto de la película de aislamiento extremo de la puerta del cuarto paso se forma mediante la exposición de la máscara y el método de grabado en seco.El quinto paso es pulverizar AL en la película, con exposición de máscara, grabando el patrón de fuente, drenaje y línea de señal de TFT.Finalmente, la película protectora se forma mediante el método PECVD, y luego la película se graba mediante exposición de máscara y grabado en seco.La película protectora se utiliza para proteger el electrodo y el electrodo y el electrodo de visualización.Hasta ahora, todo el proceso se ha completado.
La tecnología de matriz TFT es la clave del proceso de fabricación de TFT-LCD y la mayor parte de la inversión en equipos.Todo el proceso requiere un alto nivel de purificación (por ejemplo, nivel 10).
2. proceso para formar un patrón de filtro de color en un sustrato de filtro de color (CF)
El método para formar la parte coloreada del filtro de color comprende un método de tinte, un método de dispersión de pigmentos, un método de impresión, un método de deposición electrolítica y un método de inyección de tinta.En la actualidad, el método de dispersión de pigmentos.
El primer paso del método de dispersión de pigmentos es dispersar las partículas finas (tamaño de partícula promedio inferior a 0,1 M) (R, G, B tricolor) en la resina fotosensible transparente.Luego fueron recubiertas con patrones de color R., G. y B para ser recubiertas, expuestas y reveladas.El dispositivo se utiliza principalmente para recubrimiento, exposición y revelado.
Para evitar fugas de luz, generalmente con una matriz negra en la unión de tres RGB (BM).En el pasado, la película de cromo metálico de una sola capa se formaba mediante el método de pulverización catódica, y ahora hay un nuevo tipo de película BM o resina de carbono mixta BM.
